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雙靶磁控濺射儀
簡要描述：

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣

  • 產品型號：VTC-600-2HD
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2025-03-13
  • 訪  問  量：3024

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域醫療衛生,環保,化工,生物產業,電子/電池
    雙靶磁控濺射儀主要特點：

    1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。

    2、可制備多種薄膜，應用廣泛。

    3、體積小，操作簡便。

    技術參數：

產品名稱 VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
產品型號 VTC-600-2HD
安裝條件 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）
2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地
3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥
4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通風裝置：需要
主要參數 1、電源電壓：220V  50Hz
2、功率：<2KW（不含真空泵）
3、極限真空度：9.0×10-4Pa
4、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度）
5、靶槍數量：2個（可選配其他數量）
6、靶槍冷卻方式：水冷
7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）
8、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選，可選擇兩個直流電源，也可選擇兩個射頻電源，或選則一個直流一個射頻電源）
9、載樣臺：Ø140mm，可根據客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現更高質量的鍍膜。
10、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調
11、工作氣體：Ar等惰性氣體
12、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，一路為100SCCM，另一路為200SCCM。
產品規格

1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm
2、整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm
3、真空室規格：φ300×300mm
4、重量：160kg
標準配件 1直流電源控制系統1套
2射頻電源控制系統1套
3膜厚監測儀系統1套
4分子泵（德國進口）1臺
5冷水機1臺
6冷卻水管（Ø6mm）4根
可選配件 金、銦、銀、鉑等各種靶材

 


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