靶磁控濺射儀六大常見問題點及解決對策

靶磁控濺射儀在真空狀態下采用電弧放電和輝光放電工作原理，金屬和非金屬工件的表面鍍有金氮化鈦，黑碳化鈦，彩色氮氧化鈦等，也可以涂防腐膜（如AL，Cr不銹鋼和TiN等）和耐磨膜，膜層牢固地結合到基板上。濺射工藝用于涂覆以改善膜的粘附性，可重復性，密度和均勻性度等特點，適用于塑料制品，陶瓷，樹脂，水晶玻璃制品，工藝品，塑料手機殼，電子產品，建材等行業，具有良好的發展前景。

　　靶磁控濺射儀處理六個常見問題及改進對策：

　　1、漆膜為黑色和黑色

　?。?/font>1）真空度小于0.67Pa。真空度應提高到0.13-0.4Pa。

　?。?/font>2）氬氣的純度小于99.9％。應該用純度為99.99％的氬氣代替。

　?。?/font>3）充氣系統正在泄漏。應檢查充氣系統以消除空氣泄漏。

　?。?/font>4）底漆未充分固化。底漆的固化時間應適當延長。

　?。?/font>5）鍍層零件的脫氣量太大。應當進行干燥和密封處理。

　　2、膜層的表面光澤較暗

　?。?/font>1）底漆固化不良或變質。底漆的固化時間應適當延長或應更換底漆。

　　（2）濺射時間過長。應適當縮短。

　?。?/font>3）濺射成膜速度過快。濺射電流或濺射電壓應適當降低

　　3、薄膜顏色不均勻

　?。?/font>1）底漆噴涂不均勻。底漆的使用方法應加以改進。

　?。?/font>2）薄膜層太薄。適當地增加濺射速度或延長濺射時間。

　?。?/font>3）燈具設計不合理。夾具設計應加以改進。

　?。?/font>4）電鍍零件的幾何形狀太復雜。鍍層零件的旋轉速度應適當提高。

　　4、薄膜起皺并破裂

　?。?/font>1）底漆噴涂得太厚。應控制在7-10tan厚度范圍內。

　　（2）涂料的粘度太高。應適當減少。

　?。?/font>3）蒸發速度太快。應該適當放慢速度。

　?。?/font>4）膜層太厚。濺射時間應適當縮短。

　?。?/font>5）鍍層部分的溫度太高。鍍層部件的加熱時間應適當縮短。

　　5、薄膜表面上有水印，指印和灰塵顆粒。

　?。?/font>1）清潔后，鍍層部件不帶電。應加強鍍前處理。

　?。?/font>2）水滴或唾液濺到電鍍部件的表面。要加強文明生產，操作人員要戴kz。

　?。?/font>3）涂上底漆后，用手觸摸鍍層部分，在表面上留下指紋。嚴禁用手觸摸鍍層部件的表面。

　　（4）油漆中有顆粒。油漆應過濾或更換。

　?。?/font>5）靜電除塵器發生故障，或者在噴涂和固化環境中出現顆?；覊m。應更換集塵器，并保持工作環境清潔

　　6、靶磁控濺射儀膜的附著力差

　?。?/font>1）鍍層零件的脫脂和脫脂未完成。應加強鍍前處理。

　?。?/font>2）真空室不干凈。應當清潔真空室。值得注意的是，在裝卸靶材過程中，嚴禁用手或不潔物體接觸磁控管源，以確保磁控管源具有較高的清潔度，這對于提高結合力非常重要。電影的措施之一。

　?。?/font>3）夾具不干凈。夾具應清潔。

　?。?/font>4）底漆選擇不當。應更換油漆。

　　（5）濺射工藝條件控制不當。濺射工藝條件應改善。