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微型液體氣化儀基本參數產品介紹
微型液體氣化儀基本參數產品介紹

產品概述LVD-F1是一款適用于實驗室中CVD或DLCVD實驗的導入液體的一款經濟高效的液體蒸發輸送系統。其液體流量是通過一個數字液體泵來控制,最大流量為10ml/min。液體被蠕動泵導入到混氣系統后,被系統里的加熱裝置加熱成蒸汽,然后隨導入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠導出多種液體,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,還有多種有機物混合。對于研究用...

2021-06-18
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  • 真空管式爐的溫度控制與精準性管理說明

    真空管式爐作為一種高科技加熱設備,在材料科學、冶金、化工等領域具有廣泛的應用。其真空環境使得高溫處理過程能夠在無氧或低氧條件下進行,從而避免了材料的氧化和污染。然而,要實現高效運行,溫度控制與精準性管理至關重要。一、溫度控制系統的重要性溫度控制是其核心功能之一。精確的溫度控制不僅可以確保實驗和生產過程的穩定性和可重復性,還能提高產品的質量和產量。此外,合理的溫度控制還能降低能耗,延長設備的使用壽命。二、溫度控制原理真空管式爐的溫度控制主要依賴于溫度傳感器、控制器和執行器三個部...

    202411-20
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  • 如何選擇合適的真空氣氛管式爐進行實驗?

    真空氣氛管式爐作為一種實驗設備,在材料科學、物理化學等多個領域具有廣泛的應用,選擇一臺合適的管式爐對于實驗的成功至關重要。一、明確實驗需求在選擇真空氣氛管式爐之前,先要明確實驗的具體需求。這包括實驗所需的溫度范圍、加熱速度、保溫時間、氣氛類型(真空、惰性氣體或還原性氣體等)以及樣品尺寸等。只有明確了這些需求,才能有針對性地選擇合適的設備。二、考察設備性能溫度控制精度:高精度的溫度控制對于實驗結果的準確性至關重要。因此,在選擇時,應關注設備的溫度控制精度和穩定性。加熱元件與材料...

    202410-28
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  • CVD氣相沉積薄膜生長過程

    CVD(ChemicalVaporDeposition,化學氣相沉積)是一種用于薄膜沉積的技術。它通過將氣態化學前驅體反應成固態沉積物,在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應用于半導體制造、光伏設備、涂層和材料科學等領域。主要特點:1、CVD可以在不同的基材表面沉積高純度的薄膜,且厚度均勻,適用于精細的電子器件和高質量涂層。2、通過化學反應生成的薄膜通常與基材具有良好的附著力,這使得薄膜在使用過程中不易剝落。3、CVD技術能夠在復雜形狀的基材上形成均勻的涂層,包括在深孔和狹縫中,這...

    202410-9
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  • PCVD工藝的具體流程

    PECVD等離子體增強化學氣相沉積是一種利用等離子體來促進氣體反應的CVD技術。其特點包括:1、低溫沉積:PECVD可以在較低的基材溫度下進行,因為等離子體提供的能量能夠促進氣體反應,降低沉積溫度的需求。2、高沉積速率:等離子體增強了氣體反應速率,從而提高了薄膜沉積速率。3、良好的膜質量:PECVD沉積的薄膜通常具有較好的均勻性和較低的缺陷密度,適用于需要高質量薄膜的應用。4、適應性強:可以沉積多種材料,包括氧化物、氮化物和氟化物等,廣泛應用于半導體、光電器件和保護涂層等領域...

    20249-26
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  • 安全使用真空氣氛管式爐的注意事項

    真空氣氛管式爐是一種加熱設備,廣泛應用于材料科學、化學工程等領域。一、設備安裝與調試1.安裝環境確保它安裝在干燥、通風良好且無振動的環境中。避免陽光直射和高溫環境,以免影響設備的正常運行。2.接地與電源檢查設備的接地是否牢固可靠,確保在意外情況下能有效防止觸電事故。同時,確認電源電壓與設備額定電壓相符,避免因電壓不穩導致設備損壞。3.調試與檢查在正式投入使用前,進行空載試運行,觀察設備運行是否正常。檢查各部件連接是否緊固,密封性能是否良好,以確保設備的安全性能。二、操作過程中...

    20249-23
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  • CVD氣相沉積在光電器件中的應用前景

    一、CVD技術概述CVD是一種在氣相中進行的沉積工藝,利用化學反應將氣態前驅體轉化為固態薄膜。該過程能夠在各種基材上沉積高質量的薄膜,具有優異的致密性和均勻性。CVD技術的優勢在于其對薄膜厚度、成分和微觀結構的精確控制,使其成為光電器件制造的重要手段。二、光電器件中的應用太陽能電池在光伏行業中,CVD被廣泛應用于薄膜太陽能電池的制造。通過CVD技術,能夠在基板上沉積高質量的硅薄膜,顯著提升光電轉換效率。研究表明,采用CVD沉積的非晶硅和多晶硅薄膜在性能上優于傳統的晶體硅太陽能...

    20249-19
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  • 混合箱式爐的操作指南與維護技巧說明

    混合箱式爐是一種高效、節能的加熱設備,廣泛應用于實驗室、工業生產等領域。為了確保其安全、穩定地運行,以下將詳細介紹的操作指南與維護技巧。一、操作指南1.開箱檢查在使用前,請仔細打開包裝并進行全面檢查,確保爐體、控制系統及附件完好無損。2.安裝與調試按照廠家提供的安裝說明進行安裝,并確保電源電壓與爐體額定電壓相符。接通電源后,進行空載試運行,觀察爐體運行是否正常。3.加熱操作根據工藝要求設定加熱溫度和時間。加熱過程中,請勿觸摸爐門及加熱元件,以防燙傷。達到設定溫度后,需等待一段...

    20249-9
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  • 真空管式爐的工作原理與基本構造是怎樣的?

    真空管式爐是一種在真空或受控氣氛環境下對材料進行熱處理的設備,廣泛應用于金屬材料、陶瓷、化合物等材料的燒結、熱處理和分析。其工作原理與基本構造是理解其性能和應用的關鍵。它的核心工作原理是利用電阻加熱元件在真空或保護氣氛中對樣品進行加熱處理。工作過程主要包括真空獲得、加熱、冷卻三個階段。在真空獲得階段,通過真空泵系統將爐內氣體排出,形成負壓環境,以減少氣體分子對樣品的干擾和污染。加熱階段是通過電流流經爐內的加熱元件,產生焦耳熱,使爐內溫度升高至設定值。冷卻階段則通常采用自然冷卻...

    20248-27
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  • 真空燒結爐的常規注意內容

    高真空坩堝熔煉爐可用來熔煉各種易氧化金屬,如鋁,金,鋰,鎂等。其主要供大專院校、科研單位及生產企業在真空或保護氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理,也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。特點:采用電阻絲加熱,可在1100℃長期工作直徑Φ50mm石英管,CF密封法蘭,爐管內真空度可達10-6Torr(分子泵系統)采用PID方式控溫,控溫精度為+/-1℃爐管:單端封口高純石英管外徑:Φ50mm(偏差&plusm...

    20248-14
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  • 真空氣氛管式爐的節能減排特性分析

    現在大家對環保意識日益增強,節能減排已成為各行各業的重要發展方向。在材料熱處理領域,真空氣氛管式爐憑借其節能減排特性,受到了廣泛關注。一、工作原理真空氣氛管式爐是一種采用真空技術進行材料熱處理的設備。在真空環境下,通過加熱元件對爐膛內的材料進行加熱處理,同時通過氣氛控制系統保持爐內氣氛的穩定,從而實現材料的退火、淬火等熱處理工藝。二、節能減排特性分析高效節能:采用真空技術,有效降低了爐內熱量損失,提高了熱效率。同時,采用先進的加熱元件和控制技術,可實現快速升溫、精確控溫,進一...

    20247-25
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  • 移液器的移取方法

    移液器也叫移液槍,是在一定量程范圍內,將液體從原容器內移取到另一容器內的一種計量工具,被廣泛用于生物、化學等領域。移液器的性能特點:1、輕便且設計符合人機工效學;2、數字視窗,令所設定量程一目了然;3、量程范圍廣,0.1uL至10mL;4、使用附件工具,能方便快捷地進行校準和維修;5、準確的分液,每支移液器都按EN/ISO8655標準進行校準;6、下半支可高溫高壓消毒;7、采用新型材料。移取方法:1.前進移液法按下移液操作桿至第一停點位置,然后緩慢松開按鈕回原點;接著將移液操...

    20247-23
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  • 真空感應熔煉爐的維護與操作技巧說明

    真空感應熔煉爐是一種金屬熔煉設備,廣泛應用于冶金、鑄造、材料科學等領域。它利用真空技術,在低于大氣壓的壓力下,通過感應加熱使金屬熔化。為了確保設備的正常運行和延長使用壽命,需嚴格遵守操作規程和維護保養制度。一、維護保養定期檢查:定期進行全面檢查,包括爐體、真空系統、感應加熱系統、冷卻系統等。檢查各部件的緊固情況、密封性能、電氣連接等,確保設備處于良好狀態。保持清潔:保持爐內外清潔,避免灰塵、雜物進入爐內。定期清理爐膛內的金屬殘渣、氧化物等,以保持爐膛的清潔和熱量傳遞效率。檢查...

    20247-16
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