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1700℃真空氣氛管式爐主要特點:爐膛頂部安裝防爆機械排氣閥;帶過電流過電壓保護,漏電保護電氣元件及電纜,冷壓端子均符合UL認證標準;針對于材料在惰性氣體環境進行燒結或是退火,其最高溫度可高達1700...

UNIPOL-802自動精密研磨拋光機適用于各種材料的研磨與拋光,本機設置了Ø203mm的研磨拋光盤和兩個加工工位,可用于研磨拋光≤Ø80mm的平面。UNIPOL-802自動精密研...

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公司簡介

上海添時科學儀器有限公司是一家代理國內外儀器的經銷及技術服務的專業公司。國內管式爐,退火爐,氣氛爐,真空感應熔煉爐,箱式爐,手套箱,研磨拋光機,電池測試恒溫箱,金剛石線切割機,磁控濺射儀,蒸發鍍膜,PECVD設備供應商!公司所涉及的產品遍布大專院校、科研單位、工廠企業、商檢、農業、食品、超市、治金礦山、建筑、石油、路橋等行業。主要產品:生命科學儀器,化學分析儀器,光學儀器,物性測試儀器及設備,環保設備/流量儀表,行業專用儀器,藥物檢測儀器,種子儀器,農業和食品儀器,石油儀器,煤炭儀器,測繪儀表,建筑儀器,公路儀器,地質儀器,電工儀器儀表,自動化儀表,氣象儀器,環保儀器,電教器材,無線電儀器,小型機械等。并且提供與生物技術相關的實驗室科研儀器設備、實驗室耗材與試劑、實驗室設計、規劃、改建等服務。公司以“高品質,高服務,高信譽”贏得各地市場,各個領域的好評和歡迎。未來,公司將引進和代理更多國內產品,并將研發自有品牌的產品以滿足市場不同的需求,以更高質量的產品,更高質量的服務,更高效率的運營,...

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公司新聞/News
技術文章/Article
  • 2025-04-18
    高效能CVD氣相沉積工藝優化與控制策略
    CVD氣相沉積技術作為一種制備薄膜材料的重要方法,在半導體、光學、涂層等多個領域有著廣泛應用。為提高其效能,優化工藝及精準控制至關重要。優化反應氣體供給是關鍵??刂茪怏w的流量、配比及純度,能確保反應的順利進行。同時,采用高純氣體,可減少雜質引入,改善膜的性能。溫度精準控制對于高效能CVD至關重要。溫度直接影響反應速率、薄膜的生長速率和質量。通過精確的加熱系統,根據不同的沉積材料和工藝要求,設定合適的沉積溫度范圍。壓力控制也是優化CVD氣相沉積工藝的重要環節。適當的壓力環境能調...
  • 2025-03-20
    混合箱式爐如何助力工業生產中的溫控精度?
    在工業生產領域,溫控精度對于許多工藝環節的成功與否至關重要。混合箱式爐作為一種加熱設備,在提升工業生產中的溫控精度方面發揮著作用。一、多區域控溫設計通常采用多區域獨立控溫的設計。其內部被劃分為多個不同的加熱區域,每個區域都配備有獨立的加熱元件和溫度傳感器。這種設計可以針對生產過程中不同部位的溫度需求進行精確調控。同時,每個區域的溫度傳感器可以實時監測溫度變化,并將數據反饋給控制系統,控制系統再根據反饋信息精準地調整加熱元件的輸出功率,進一步提高了溫度控制的準確性。二、溫度監測...
  • 2024-12-09
    研磨拋光機在金屬加工中的應用與優勢介紹
    研磨拋光機作為金屬加工領域的重要設備,廣泛應用于金屬表面的處理,旨在提高工件的表面質量和美觀度。一、應用領域1、精密零件加工:在精密機械制造中,研磨拋光機可用于處理小型、高精度的金屬零件,以達到鏡面效果,提升其使用性能和壽命。2、汽車零部件處理:汽車零部件如發動機缸體、曲軸等經過研磨拋光后,可減少摩擦阻力,提高燃油效率和動力輸出。3、航空航天部件制造:航空航天領域對零部件的表面質量要求較高,能夠確保這些部件達到嚴格的表面光潔度標準。4、醫療器械生產:醫療器械如手術器械、植入物...
  • 2024-11-13
    混合箱式爐的維護保養要點有哪些?
    混合箱式爐,作為一種高效且多功能的加熱設備,在眾多工業領域有著廣泛的應用。然而,為了確保其長期穩定的運行和延長使用壽命,定期的維護保養至關重要。一、日常檢查每日操作前,應仔細檢查外觀是否有明顯的損傷或變形,各連接部位是否緊固無松動。此外,還需檢查爐內是否有殘留物,若有應及時清理,以免影響加熱效果。二、定期清理在使用過程中,容易積累灰塵、雜質等污物。這些污物不僅會影響爐內的熱效率,還可能導致爐膛堵塞、加熱元件損壞等問題。因此,應定期對爐內進行清理,一般建議每季度進行一次全面清理...
  • 2024-10-21
    PECVD等離子體增強氣相沉積在薄膜太陽能電池中的應用說明
    PECVD等離子體增強氣相沉積技術,在薄膜太陽能電池的生產過程中占據著重要的地位。這一技術手段不僅提高了太陽能電池的轉換效率,還大幅降低了生產成本,為太陽能電池的大規模商業化應用奠定了堅實基礎。在薄膜太陽能電池的制作中,PECVD主要用于沉積薄膜材料。與其他傳統的沉積方法相比,具有諸多優勢。它能夠在較低的溫度下完成薄膜的沉積,這對于保護電池中的敏感材料和結構至關重要。同時,能夠實現高精度的薄膜厚度控制,這對于電池性能的一致性和穩定性有著至關重要的影響。PECVD等離子體增強氣...
  • 2024-09-16
    提高研磨拋光機效率的實用建議
    研磨拋光機是制造業中的重要設備,廣泛應用于金屬、陶瓷、玻璃等材料的表面處理。為了提高生產效率和降低成本,以下是一些實用的改進建議。一、優化工藝流程先要對整個研磨拋光工藝流程進行全面梳理和優化。明確每個工序的目標和要求,合理安排工序順序,減少不必要的中間環節。同時,引入自動化和智能化技術,實現生產線的高效運轉。二、選用合適的研磨拋光材料選擇合適的研磨拋光材料是提高效率的關鍵。根據待處理材料的性質和要求,選擇具有適當硬度、粒度和形狀的磨料。同時,合理控制磨料的濃度和供給量,以確保...
  • 2024-09-14
    如何優化真空感應熔煉爐的操作流程?
    真空感應熔煉爐是一種熔煉設備,廣泛應用于航空航天、汽車制造、機械工程等領域。為了提高生產效率、降低成本并確保產品質量,優化操作流程至關重要。以下是一些建議和措施,以幫助您優化操作流程。一、前期準備1.設備檢查與維護在開始熔煉之前,務必對真空感應熔煉爐進行全面檢查,確保設備處于良好狀態。檢查內容包括電氣系統、冷卻系統、真空系統等。定期對設備進行維護保養,以延長使用壽命。2.原材料準備確保原材料的質量符合要求,避免因雜質過多或成分不均導致熔煉失敗,對原材料進行適當的預處理。二、操...
  • 2024-09-02
    真空感應熔煉爐的能源消耗與成本控制
    真空感應熔煉爐是一種高效、節能的金屬熔煉設備,廣泛應用于航空航天、冶金、機械制造等領域。一、能源消耗特點真空感應熔煉爐的能源消耗主要包括電能、燃料消耗和輔助設備能耗等。其中,電能是主要的能源消耗部分,主要用于加熱、攪拌和真空抽氣等過程。燃料消耗主要發生在需要輔助加熱的情況下。輔助設備能耗則包括水泵、風機、冷卻系統等的能耗。二、影響能源消耗的因素能源消耗受到多種因素的影響,如熔煉材料的種類和性質、熔煉工藝參數、設備的設計和制造水平、操作人員的技能水平等。因此,在實際生產過程中,...
  • 2025-04-24
    PECVD等離子體增強氣相沉積的工藝研究與性能優化介紹
    PECVD等離子體增強氣相沉積作為一種重要的薄膜制備技術,在半導體、光學和能源等領域具有廣泛應用。一、??工藝研究??PECVD等離子體增強氣相沉積利用等離子體對氣體分子進行離解和激活,使反應在較低溫度下快速進行。其關鍵工藝參數包括等離子體功率、氣體流量、反應壓力和基片溫度等。等離子體功率決定了反應中活性物種的濃度和能量,影響著薄膜的沉積速率和質量。氣體流量和反應壓力則控制著反應氣體在反應腔內的濃度和分布,進而影響薄膜的組成和均勻性?;瑴囟葘Ρ∧さ纳L結構和結晶度有著重要影...
  • 2025-04-21
    如何優化CVD氣相沉積過程以提高薄膜質量?
    CVD氣相沉積是一種用于制備各種薄膜材料的常用技術。為了獲得高質量的薄膜,在CVD過程中可以從以下幾個方面進行優化。??一、優化反應氣體的選擇與控制??選擇合適的前驅體氣體是關鍵。前驅體應具有良好的揮發性、熱穩定性和反應活性,能夠按照預期在基底上發生反應生成目標薄膜。同時,要精確控制反應氣體的流量、濃度和比例。采用質量流量控制器可以實現對氣體流量的精準控制,確保反應在合適的氣體組成下進行。??二、改善反應環境條件????溫度??:溫度對CVD薄膜的生長速率、結晶質量和化學成分...
  • 2025-04-16
    如何優化PECVD等離子體增強氣相沉積過程以提高薄膜質量和沉積均勻性?
    PECVD等離子體增強氣相沉積是一種廣泛應用于制備薄膜材料的技術。為提高薄膜質量和沉積均勻性,可從以下幾個關鍵方面進行優化。??一、工藝參數的精細調控??1、??功率控制??射頻(RF)功率是PECVD等離子體增強氣相沉積的關鍵參數。適當提高功率能增強等離子體密度,促進反應氣體分解,增加活性基團數量,有利于薄膜沉積。但過高的功率可能導致等離子體對基底的過度轟擊,損傷基底或使薄膜產生缺陷。因此,需要根據基底材料和薄膜類型,精確調節功率,找到較佳平衡點。??2、氣體流量與壓力??...
  • 2025-04-15
    真空熱電弧熔煉爐的安裝調試流程
    真空熱電弧熔煉爐是一種用于高溫熔煉和精煉金屬的先進設備,其安裝調試過程對于確保設備的正常運行和生產效率至關重要。以下是對真空熱電弧熔煉爐安裝調試方式的詳細描述:一、安裝準備1.場地確認:首先,需要確認安裝場地符合設備要求,包括空間大小、地面承載能力、電源供應等。場地應平整、干燥、通風良好,且遠離易燃易爆物品和腐蝕性氣體。2.設備檢查:在安裝前,應對真空熱電弧熔煉爐進行全面檢查,包括外觀檢查、配件清單核對、內部結構檢查等,確保設備在運輸過程中沒有受到損壞或缺失部件。3.基礎施工...
  • 2025-03-26
    真空氣氛管式爐的熱處理工藝與控制技術分析
    真空氣氛管式爐作為材料加工領域的重要設備,在熱處理工藝中發揮著關鍵作用。其能夠提供精確的溫度、氣氛控制,滿足不同材料的特殊熱處理需求。深入了解其熱處理工藝與控制技術,對于提高材料性能、保障產品質量具有重要意義。一、熱處理工藝1、?加熱階段在真空氣氛管式爐中,加熱過程是熱處理工藝的重要環節。由于爐內處于真空或特定氣氛環境中,熱量傳遞主要依靠輻射。這種方式能使爐內溫度均勻性較好,減少因對流和傳導造成的溫度不均現象。?2、保溫階段保溫階段的時間和溫度對于材料的組織轉變和性能改善起著...
  • 2025-03-21
    研磨拋光機的使用流程有幾步
    研磨拋光機是一種廣泛應用于各種材料表面處理的設備,其使用流程對于確保加工質量和效率至關重要。以下是對研磨拋光機使用流程的詳細描述:一、準備工作1.設備檢查:-在開機前,首先要對研磨拋光機進行全面檢查,包括電源線是否完好、開關是否靈活、防護裝置是否牢固等。-檢查砂輪或拋光輪是否安裝牢固,有無松動或損壞現象。-確保研磨拋光機的工作環境整潔,無雜物干擾。2.選擇研磨具:-根據待加工材料的性質和加工要求,選擇合適的研磨具。-研磨具應具有良好的耐磨性和適當的硬度,以確保研磨效果。3.調...
  • 2025-03-17
    提拉涂膜機在電子與薄膜材料中的關鍵作用
    在電子與薄膜材料領域,提拉涂膜機正發揮著關鍵作用,它是制備高質量薄膜材料的核心設備之一。一、薄膜材料制備的核心設備電子與薄膜材料的發展對于微觀結構和均勻性要求較高,通過涂覆工藝,能夠將各種功能性液體均勻地涂抹在基底材料上,進而經過干燥、固化等過程形成薄膜。無論是在半導體芯片制造中需要的超薄導電層,還是在光學薄膜領域用于調控光的反射、折射和吸收的功能膜,都能精確控制涂覆厚度和均勻性,為制備滿足應用需求的薄膜材料提供了堅實保障。二、精確控制薄膜厚度在電子器件中,薄膜厚度的微小差異...
  • 2025-03-11
    手套箱在化學實驗中的重要性與操作技巧分析
    在化學實驗領域,手套箱是一種重要設備,尤其在處理敏感、危險或高活性化學物質時,發揮著至關重要的作用。了解重要性并掌握正確的操作技巧,對于保障實驗安全、提高實驗效率具有重要的意義。一、在化學實驗中的重要性(一)提供隔離環境,保障人員安全化學實驗中,許多物質具有毒性、腐蝕性或反應活性。通過將操作區域與外界環境隔離開來,使得操作人員的手部能夠通過手套伸入內部進行操作,而直接與危險物質隔離,避免了人體接觸有害物質的風險,更大程度保障了實驗人員的健康和安全。(二)維持特定的氣體氛圍和濕...
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